仪器名称

纳米压印系统

型    号

Eitre® 3

仪器编号

仪器来源

购置

生产厂商

瑞典Obducat公司

启用日期

2013-4-16

仪器类别

器件微加工仪器

仪器原值

1100000

所在单位部门

中国科学院化学研究所-分子器件研究平台

仪器负责人

狄重安、孟青

联系电话

010-62552061

地      址

北京市海淀区中关村北一街2号

邮    编

100190

E-mail

rpmdic@iccas.ac.cn

主要技术指标

温度范围：室温~200^oC

最大升温速度：0.5~1 K/sec

制冷方式：气冷

最大压强：≤70 bar

基座尺寸：10~77 mm (Ø)

紫外光波长：250~450 nm

紫外光功率：40~100 mW / cm²

包含主要附件

仪器主要功能

纳米压印技术是在涂有保形功能高分子膜的基底上,经紫外曝光或者热处理方法，在微纳米尺度上进行模版图形转移和复制的技术。该系统采用气压软压印技术，同时具备紫外光压印和热压印功能。

仪器服务领域

有机光电材料器件

计量认证资质

否

实验室认可

否

仪器现状

正常

收费标准

400元/小时

仪器图片