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超深紫外光刻系统MA6
2013-06-05 浏览:
  

仪器名称

超深紫外光刻系统

   

MA6

仪器编号

 

仪器来源

购置

生产厂商

德国SUSS公司

启用日期

 

仪器类别

器件微加工仪器

仪器原值

 

所在单位部门

中国科学院化学研究所-分子器件研究平台

仪器负责人

狄重安、孟青

联系电话

010-62552061

     

北京市海淀区中关村北一街2

   

100190

E-mail

rpmdic@iccas.ac.cn

主要技术指标

衬底面积:150´l50 mm2

最大运行距离:X方向为300 mm,Y方向为200mm,Z方向为40 mm.

最大运行速度:X,Y方向为100 mm/sZ方向为10 mm/s

定位精度:±15 μm

重复定位精度:±5 μm

包含主要附件

 

仪器主要功能

利用光刻胶,将掩模板上的微观结构或图形进行复制转移

仪器服务领域

有机光电材料器件等

计量认证资质

实验室认可

仪器现状

正常

收费标准

800/2小时(最小单次机时为2小时)

仪器图片

DSC00075

 
 
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