首 页  中心简介 服务项目 联系我们
当前位置:Home>大型仪器>高分子科学与材料实验平台
离子溅射仪SCD500
2013-06-05 浏览:
  

仪器名称

离子溅射仪

   

SCD500

仪器编号

20070050

仪器来源

购置

生产厂商

瑞士Bal-Tec

启用日期

2007/1/31

仪器类别

制样设备

仪器原值

247,570.82

所在单位部门

中国科学院化学研究所-高分子化学与物理实验室

仪器负责人

周勇

联系电话

010-82618533

     

北京市海淀区中关村北一街2

   

100190

E-mail

yzhou@iccas.ac.cn

主要技术指标

1.镀膜均匀,颗粒细小,镀膜时的真空度可达到5x10-5mbar

2.紧凑的台式结构,隔膜泵、涡轮

泵与整机集成一体.

3.最大溅射电流150mA

4.多种靶材(铬、钨、铂等)。

5.真空室内径108mm,工作距离32-102mm

包含主要附件

喷碳功能

仪器主要功能

样品表面蒸镀导电层,增加非金属样品表面导电性

仪器服务领域

扫描电镜样品表面导电层蒸镀,特殊表面处理

计量认证资质

实验室认可

仪器现状

正常

收费标准

50/

仪器图片

 

 
 
【打印本页】【关闭本页】
中国科学院   版权所有 © 中国科学院化学研究所公共技术服务中心 京ICP备05002796号
地址:北京市海淀区中关村北一街2号  邮编:100190